晶片製造再進化 艾司摩爾展示新一代EUV微影設備

晶片製造再進化 艾司摩爾展示新一代EUV微影設備

艾司摩爾的新一代極紫外光微影設備。圖/艾司摩爾提供

晶片製造設備商艾司摩爾(ASML)十日展示新一代極紫外光(EUV)微影設備,約一輛雙層巴士大、重約兩架空巴A320客機、要價達三點五億歐元(約臺幣一一六億元)的高數值孔徑EUV。該設備對ASML在一二五○億美元(約臺幣四兆元)的EUV市場保持領導地位至關重要。

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ASML預計今年能出貨數臺高數值孔徑EUV。英特爾已下訂單,首臺去年十二月已送達該公司奧勒岡州廠,預定明年啓用製造晶片。

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這臺EUV可在八奈米厚半導體列印電路,比前一代小一點七倍,而電路愈細,晶片可安裝的電晶體就愈多,處理速度和記憶體表現就愈佳。ASML高階主管表明,該設備對人工智慧(AI)發展極爲重要。

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ASML執行長韋尼克一月受訪時說,AI需大量運算能力及數據儲存。「若沒有ASML和我們的技術,將無法實現。這會是我們業務的一大驅動力」。該公司發言人莫爾斯(Monique Mols)九日在其總部說,安裝這套重達十五萬公斤的系統,要用二五○個貨箱和二五○名工程師,耗時半年。

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ASML自二○一八年起銷售的低數值孔徑EUV微影設備,標價一點七億歐元(約臺幣五十六億元)。

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